By this author

GASDYNAMIC MODELING OF HIGH-TEMPERATURE SILICONIZING OF POROUS SILICON-BASED MATERIALS

Issue number 2 from 01.02.2025

Предложена и апробирована расширенная физико-математическая модель переноса паров кремния от зеркала расплава к пористому углеродному изделию в условиях среднего вакуума при реализации процесса парофазного силицирования. Проведено качественное и количественное сравнение представленной модели с предложенными ранее. Новизна рассматриваемого подхода заключается в учете дополнительного эффекта в виде возможности перераспределения разреженной несущей среды, в роли которой выступает инертный газ аргон, в результате оттеснения парами кремния. Количественно показано насколько пары кремния вытесняют аргон в реторте в ходе парофазного силицирования. Изучена динамика фронта вытеснения. Предлагаемая модель, описываемая системой дифференциальных уравнений в частных производных, позволяет рассчитать среднемассовую скорость газовой смеси и диффузионный перенос паров кремния от зеркала расплава через несущую среду к поверхности образца.

20 0